現(xiàn)貨TAISEI大成技研 渦流型氣體除粉裝置

現(xiàn)貨TAISEI大成技研 渦流型氣體除粉裝置

大成技研株式會社提供的“氣體粉末去除裝置"主要去除半導體、液晶制造設備（離子注入、CVD、蝕刻等）中排出的氣體反應生成物（微細粉末）。
特別是，通過旋轉渦流吸附和高性能磁性元件，可以排除離子注入和CVD設備中產生的1μm以下的反應產物。該裝置在元件內幾乎沒有壓力損失，可用于真空泵的前級和后級，是一種創(chuàng)新的粉末捕集器，可以輕松處理現(xiàn)有過濾器無法去除的細粉末。它有望顯著減少維護工時并提高生產率。

TRAPACK是一種粉末去除捕集器，可去除半導體和液晶制造設備廢氣中的反應產物（細粉）。結構有渦流旋流吸附型、磁性元件型（Trapac Element）以及兩者結合的組合型三種。特別是，組合型排除了蝕刻設備和CVD設備發(fā)出的亞微米細粉。

清潔廢氣管道  減少前線閥門的維護  真空泵故障預防     提高生產力  減少前線維護

 外觀結構   特征

去除細小反應產物（細粉）

單元密度低，網格空隙大

粉末分層在元件的表面和內部。

  主要用途   規(guī)格

  注入     ?一次元件/Trapac元件

  蝕刻     ?次要元素/無

         安裝位置/真空、排氣

  TU-KN100

（元件型）  主要用途：通用

元件類型：DL

端口尺寸：NW25

尺寸：D90mm x H195mm

重量：1.9kg

 TU-KN200

（元件型）  主要用途：通用

元件類型：EL

端口尺寸：NW40

尺寸：D140mm x H210mm

重量：4.6kg

 TU-KN500

（元件型）  主要用途：通用

元件類型：GL

端口尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H260mm

重量：10kg

 TU-KN500W

（元件型）  主要用途：通用

元件類型：HL

接管尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H390mm

重量：13kg

 TU-200

（元件型）  主要用途：

植入 元件類型：EL

連接尺寸：NW25

尺寸：D210mm x H210mm

重量：5.3kg

 TU-250

（元件型）  主要用途：

植入 元件類型：FL

連接尺寸：NW40

尺寸：D210mm x H295mm

重量：6.5kg

 TU-500

（元件型）  主要應用：廠內/蝕刻

元件類型：GL

連接直徑：NW40

尺寸：D300mm x H267mm

重量：10.0kg

 TU-500W

（元件型）  主要應用：植入/蝕刻

元件類型：HL

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：D300mm x H415mm

重量：13kg

 TU-1000

（元件型）  主要應用：就位/蝕刻

元件類型：GL

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：D300mm x H555mm

重量：16.5kg

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 TRAPPACK（Uzu型）

這是一種氣體除粉裝置，是 Trapac 的進一步發(fā)展，配備了漩渦型元件。

 外觀結構   特征

由于螺旋結構，粉末不會長時間經歷壓力損失

幾乎所有粉末都被渦流數(shù)和渦流螺距的組合拒之門外。

粉末分層在安裝的渦流元件的表面上。

 ?主要用途 / CVD、蝕刻 ?一次元件 / 渦流元件

?二次元件 / 無 ?安裝位置 / 真空、排氣

 TU-50LM /LMJ

(渦流型)  主要用途：蝕刻/CVD

元件類型：ASD-50 渦流

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□370mm x H707mm

重量：53kg / 68kg

 TU-65LM /LMJ

(渦流型)  主要用途：蝕刻/CVD

元件類型：ASD-65 渦流

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□400mm x H1013mm

重量：94kg / 99kg

 TU-85LM /LMJ

(渦流型)  主要用途：蝕刻/CVD

元件類型：ASD-85 渦流

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□430mm x H1064mm

重量：100kg / 115kg

 TU-95LM /LMJ

(渦流型)  主要用途：蝕刻/CVD

元件類型：ASD-95 渦流

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□485mm x H1064mm

重量：145kg / 160kg

 TU-105LM /LMJ

(渦流型)  主要用途：蝕刻/CVD

元件類型：ASD-105 渦流

連接尺寸：NW40、NW50

尺寸：□535mm x H1264mm

重量：180kg / 240kg

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 TRAPPACK（組合型）

TRAPACK的進一步進化，配備組合型元件（渦流型+元件型）的氣態(tài)除粉裝置。

 外觀結構   特征

去除細小反應產物（細粉）

單元密度低，網格空隙大

粉末在螺旋和元件部分分層。

 ?主要用途 / CVD、蝕刻 ?一次元件 / 渦流元件

?二次元件 / Trapak 元件 ?安裝位